靶材服務(wù)于濺鍍薄膜，單一的靶材研究毫無(wú)應(yīng)用意義。
靶材研究和薄膜研究結(jié)合起來(lái)，研究靶材成份、性能與濺射薄膜性能間的關(guān)系。
圓柱形、平面式磁控濺射靶在靶面上形成兩組(四條)對(duì)稱的封閉的環(huán)形輝光帶。
隨著靶材的消耗，與其它形式的磁控濺射靶相比，圓柱形、平面式磁控濺射靶在保留了矩形平面靶鍍膜均勻性好的優(yōu)點(diǎn)的同時(shí)。
可通過以下兩條途徑提高靶材的利用率。
熱處理：金屬坯錠在經(jīng)過大幅度的塑形變形后，根據(jù)不同的材料的特性選擇熱處理工藝。
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