一、除焦炭水基清洗劑簡介：???除焦炭水基清洗劑主要用于清洗表面沾污有石蠟、油脂和油脂類高分子化合物以及表面沾污有金屬原子和金屬離子等。
二、除焦炭水基清洗劑特性與優(yōu)點：???該清洗劑清洗效果相當于或略優(yōu)于傳統(tǒng)清洗工藝，成本卻大大降低，只有傳統(tǒng)清洗工藝成本的10~30％，而且無毒無腐蝕性、對人體無危害、對環(huán)境無污染，經(jīng)濟效益顯著。
三、除焦炭水基清洗劑應(yīng)用范圍：????除焦炭水基清洗劑在半導體分立器件和中、小規(guī)模集成電路中能夠完全代替?zhèn)鹘y(tǒng)半導體清洗工藝中使用的清洗液。
四、除焦炭水基清洗劑技術(shù)指標：????外觀：?淡黃色液體????PH值：??8~10????粘度：?80-160????有效活性物含量：＞40％????有害金屬雜質(zhì)含量：＜1ppm五、除焦炭水基清洗劑使用方法：?????配制清洗液時，將去離子水加熱到40-60℃，但不要超過60℃。
或者用室溫去離子水配制亦可。
然后按下列體積比進行配制。
清洗劑：去離子水＝1：19將配制好的清洗劑倒入石英杯中,清洗液應(yīng)浸沒過硅片或晶體為宜,然后將石英杯置于超聲波清洗設(shè)備中（槽中應(yīng)加適量的去離子水）進行超聲波清洗5分鐘左右,倒掉清洗液,再用熱去離子水沖洗5分鐘左右,以沖凈為宜。
清洗大量硅片或晶體時采用專業(yè)清洗機進行清洗更為方便。
六、海揚服務(wù)???1、免費贈送樣品，還可以根據(jù)客戶要求，定制研發(fā)新產(chǎn)品，廣東省內(nèi)樣品12小時送達，省外24小時送達。
???2、寄樣內(nèi)容：產(chǎn)品樣品（200ml、產(chǎn)品檢測報告（物理指標和化學指標）、產(chǎn)品說明書（應(yīng)用范圍和用法）、SGS報告（國家環(huán)保檢測報告））、MSDS報告（國家安全檢測報告）???3、技術(shù)支持：任何關(guān)于產(chǎn)品在應(yīng)用和用法方面的問題，都可以免費咨詢我們的技術(shù)工程師*，讓您方便、簡單、快捷、省時、省力的使用我們的產(chǎn)品。
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