真空鍍膜機械多功能表面處理設備真空離子蒸發(fā)鍍膜機/磁控濺射鍍膜機 真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。
主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。
使用控柜操作 1. 開水泵、氣源。
2. 開總電源。
3. 開維持泵、真空計電源，真空計檔位置V1位置，等待其值小于10后，再進入下一步操作。
約需5分鐘。
4. 開機械泵、予抽，開渦輪分子泵電源、啟動，真空計開關換到V2位置，抽到小于2為止，約需20分鐘。
5. 觀察渦輪分子泵讀數到達250以后，關予抽，開前機和 高閥繼續(xù)抽真空，抽真空到達一定程度后才能開右邊的高真空表頭，觀察真空度。
真空到達2×10-3以后才能開電子*電源。
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