陽極氧化：主要是鋁的陽極氧化，手機指環(huán)扣，是利用電化學原理，在鋁和鋁合金的表面生成一層Al2O3（氧化鋁）膜。
這層氧化膜具有防護性、裝飾性、絕緣性、耐磨性等特殊特性。
利用柔性拋光工具和磨料顆?；蚱渌麙伖饨橘|(zhì)對工件表面進行的修飾加工。
針對不同的拋光過程:粗拋(基礎拋光過程)，中拋(精加工過程)和精拋(上光過程)，選用合適的拋光輪可以達到好的拋光效果，同時提高拋光效率。
技術特點：提高工件的尺寸精度或幾何形狀精度，得到光滑表面或鏡面光澤，同時也可*光澤。
在真空條件下成膜有很多優(yōu)點：可減少蒸發(fā)材料的原子、分子在飛向基板過程中于分子的碰撞，減少氣體中的活性分子和蒸發(fā)源材料間的化學反應（如氧化等），以及減少成膜過程中氣體分子進入薄膜中成為雜質(zhì)的量，手機指環(huán)扣廠商，從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與基板的附著力。
通常真空蒸鍍要求成膜室內(nèi)壓力等于或低于10-2Pa，手機指環(huán)扣訂制，對于蒸發(fā)源與基板距離較遠和薄膜質(zhì)量要求很高的場合，則要求壓力更低。
離子鍍：蒸發(fā)物質(zhì)的分子被電子碰撞電離后以離子沉積在固體表面，稱為離子鍍。
這種技術是D.麥托克斯于1963年提出的。
離子鍍是真空蒸發(fā)與陰極濺射技術的結(jié)合。
一種離子鍍系統(tǒng)如圖4[離子鍍系統(tǒng)示意圖]，手機指環(huán)扣供應，將基片臺作為陰極，外殼作陽極，充入惰性氣體以產(chǎn)生輝光放電。
從蒸發(fā)源蒸發(fā)的分子通過等離子區(qū)時發(fā)生電離。
正離子被基片臺負電壓加速打到基片表面。
未電離的中性原子（約占蒸發(fā)料的95％）也沉積在基片或真空室壁表面。
電場對離化的蒸氣分子的加速作用（離子能量約幾百～幾千電子伏）和亞離子對基片的濺射清洗作用，使膜層附著強度大大提高。
離子鍍工藝綜合了蒸發(fā)（高沉積速率）與濺射（良好的膜層附著力）工藝的特點，并有很好的繞射性，可為形狀復雜的工件鍍膜。
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