離子鍍：蒸發(fā)物質(zhì)的分子被電子碰撞電離后以離子沉積在固體表面，稱為離子鍍。
這種技術是D.麥托克斯于1963年提出的。
離子鍍是真空蒸發(fā)與陰極濺射技術的結合。
一種離子鍍系統(tǒng)如圖4[離子鍍系統(tǒng)示意圖]，將基片臺作為陰極，外殼作陽極，充入惰性氣體以產(chǎn)生輝光放電。
從蒸發(fā)源蒸發(fā)的分子通過等離子區(qū)時發(fā)生電離。
正離子被基片臺負電壓加速打到基片表面。
未電離的中性原子（約占蒸發(fā)料的95％）也沉積在基片或真空室壁表面。
電場對離化的蒸氣分子的加速作用（離子能量約幾百～幾千電子伏）和亞離子對基片的濺射清洗作用，使膜層附著強度大大提高。
離子鍍工藝綜合了蒸發(fā)（高沉積速率）與濺射（良好的膜層附著力）工藝的特點，并有很好的繞射性，可為形狀復雜的工件鍍膜。
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