指環(huán)6的外圈8上設(shè)置有內(nèi)軌9,陀螺指環(huán)扣支架廠(chǎng)家,裝飾件7的底邊上設(shè)置有凸邊10,所述凸邊10卡在內(nèi)軌9上,裝飾件7通過(guò)凸邊10與內(nèi)軌9的配合,使裝飾件7在指環(huán)6上沿著內(nèi)軌9活動(dòng);所述指環(huán)扣上設(shè)置有至少一個(gè)裝飾件7,且裝飾件7為鑲有鉆石或珠片的裝飾件7。
使用者可以根據(jù)喜好或使用場(chǎng)合選擇鑲有鉆石或珠片的裝飾件7,而且在使用者使用的時(shí)候,陀螺指環(huán)扣支架廠(chǎng)商,有至少一個(gè)裝飾件7沿著內(nèi)軌9在指環(huán)6內(nèi)轉(zhuǎn)動(dòng),不僅能為指環(huán)扣增加美感,還能指環(huán)扣的趣味性。
鍍膜加工廠(chǎng)告訴你真空鍍膜的特點(diǎn)是什么?真空鍍膜和其他鍍膜方式相比較具有哪些特點(diǎn)呢?現(xiàn)在由電鍍加工廠(chǎng)的小編和大家說(shuō)說(shuō)具體有哪些特點(diǎn):1.真空鍍膜可以在固態(tài)基體上鍍制金屬,合金,半導(dǎo)體薄膜及各種化合物薄膜拜,薄膜的成分可以在大范圍內(nèi)調(diào)控。
2.真空鍍膜可以鍍制高純度,高致密度,與基體結(jié)合力強(qiáng)的各種功能薄膜拜。
特別是各種金屬五金產(chǎn)品,大規(guī)模集成電路,小分子有機(jī)顯示器件等很多器件所需的主體薄膜只能在真空條件下制備,其他制模技術(shù)無(wú)法滿(mǎn)足要求。
3.真空鍍膜對(duì)環(huán)境無(wú)污染,特別是PVD方法。
4.真空鍍膜是需要有真空設(shè)備來(lái)完成的鍍膜,陀螺指環(huán)扣支架,所以成本比較高,但真空鍍膜產(chǎn)品耐磨性好,耐腐蝕,環(huán)保,產(chǎn)品可過(guò)ROHS測(cè)試。
濺射鍍膜:用高能粒子轟擊固體表面時(shí)能使固體表面的粒子獲得能量并逸出表面,沉積在基片上。
濺射現(xiàn)象于1870年開(kāi)始用于鍍膜技術(shù),陀螺指環(huán)扣支架廠(chǎng),1930年以后由于提高了沉積速率而逐漸用于工業(yè)生產(chǎn)。
常用的二極濺射設(shè)備如圖3[ 二極濺射示意圖]。
通常將欲沉積的材料制成板材——靶,固定在陰極上。
基片置于正對(duì)靶面的陽(yáng)極上,距靶幾厘米。
系統(tǒng)抽至高真空后充入10-1帕的氣體,在陰極和陽(yáng)極間加幾千伏電壓,兩極間即產(chǎn)生輝光放電。
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