指環(huán)6的外圈8上設(shè)置有內(nèi)軌9，裝飾件7的底邊上設(shè)置有凸邊10，陀螺指環(huán)扣支架，所述凸邊10卡在內(nèi)軌9上，裝飾件7通過凸邊10與內(nèi)軌9的配合，陀螺指環(huán)扣支架供應(yīng)商，使裝飾件7在指環(huán)6上沿著內(nèi)軌9活動；所述指環(huán)扣上設(shè)置有至少一個裝飾件7，且裝飾件7為鑲有鉆石或珠片的裝飾件7。
使用者可以根據(jù)喜好或使用場合選擇鑲有鉆石或珠片的裝飾件7，而且在使用者使用的時候，有至少一個裝飾件7沿著內(nèi)軌9在指環(huán)6內(nèi)轉(zhuǎn)動，陀螺指環(huán)扣支架定做，不僅能為指環(huán)扣增加美感，還能指環(huán)扣的趣味性。
濺射鍍膜：用高能粒子轟擊固體表面時能使固體表面的粒子獲得能量并逸出表面，沉積在基片上。
濺射現(xiàn)象于1870年開始用于鍍膜技術(shù)，陀螺指環(huán)扣支架公司，1930年以后由于提高了沉積速率而逐漸用于工業(yè)生產(chǎn)。
常用的二極濺射設(shè)備如圖3[ 二極濺射示意圖]。
通常將欲沉積的材料制成板材——靶，固定在陰極上。
基片置于正對靶面的陽極上，距靶幾厘米。
系統(tǒng)抽至高真空后充入10-1帕的氣體，在陰極和陽極間加幾千伏電壓，兩極間即產(chǎn)生輝光放電。
在真空條件下成膜有很多優(yōu)點(diǎn)：可減少蒸發(fā)材料的原子、分子在飛向基板過程中于分子的碰撞，減少氣體中的活性分子和蒸發(fā)源材料間的化學(xué)反應(yīng)（如氧化等），以及減少成膜過程中氣體分子進(jìn)入薄膜中成為雜質(zhì)的量，從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與基板的附著力。
通常真空蒸鍍要求成膜室內(nèi)壓力等于或低于10-2Pa，對于蒸發(fā)源與基板距離較遠(yuǎn)和薄膜質(zhì)量要求很高的場合，則要求壓力更低。
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