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蒸發(fā)鍍膜:通過加熱蒸發(fā)某種物質使其沉積在固體表面,稱為蒸發(fā)鍍膜。
這種方法較早由M.法拉第于1857年提出,指環(huán)扣車載支架,現(xiàn)代已成為常用鍍膜技術之一。
蒸發(fā)物質如金屬、化合物等置于坩堝內或掛在熱絲上作為蒸發(fā)源,待鍍工件,如金屬、陶瓷、塑料等基片置于坩堝前方。
待系統(tǒng)抽至高真空后,加熱坩堝使其中的物質蒸發(fā)。
蒸發(fā)物質的原子或分子以冷凝方式沉積在基片表面。
薄膜厚度可由數(shù)百埃至數(shù)微米。
膜厚決定于蒸發(fā)源的蒸發(fā)速率和時間(或決定于裝料量),并與源和基片的距離有關。
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