產(chǎn)品參數(shù) 品牌：超寶 加工定制：是 機器類型：加香機 用途：家用 原理：超聲波 產(chǎn)品特點 某研究機構(gòu)采用Hakuto 離子蝕刻機 10IBE 對碲*汞晶體進行蝕刻, 并研究碲*汞晶體蝕刻后的電學特性. Hakuto 離子蝕刻機 10IBE 技術參數(shù): 基板尺寸 < Ф8 X 1wfr 樣品臺 直接冷卻（水冷）0-90 度旋轉(zhuǎn) 離子源 16cm 考夫曼離子源 均勻性 ±5% for 4”Ф 硅片刻蝕率 20 nm/min 溫度 <100 Hakuto 離子刻蝕機 10IBE 離子源是配伯東公司代理美國 考夫曼博士創(chuàng)立的 KRI考夫曼公司的考夫曼離子源 KDC 160 伯東美國 KRI 考夫曼離子源 KDC 160 技術參數(shù)： 離子源型號 離子源 KDC 160 Discharge DC 熱離子 離子束流 >650 mA 離子動能 100-1200 V 柵極直徑 16 cm Φ 離子束 聚焦, 平行, 散射 流量 2-30 sccm 通氣 Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 典型壓力 < 0.5m Torr 中和器 燈絲 Hakuto 離子刻蝕機 10IBE 真空腔采用 Pfeiffer 渦輪分子泵 Hipace 700, 可抽的真空度 < 1 · 10-7 hpa, 良好的保持真空腔的真空度. 試驗利用遷移率譜分析了離子束刻蝕后的碲*汞晶體, 發(fā)現(xiàn) 180μm 的 p 型碲*汞晶體在刻蝕后完全轉(zhuǎn)為 n 型, 且由兩個不同電學特性的電子層組成:低遷移率的表面電子層和高遷移率的體電子層. 通過分析不同溫度下的遷移率譜, 表明表面電子層的遷移率不隨溫度而變化, 而體電子層的遷移率隨溫度的變化與傳統(tǒng)的n型碲*汞材料一致. 不同厚度下的霍爾參數(shù)表明體電子層的電學性質(zhì)均勻. 另外,通過計算得到表面電子層的濃度要比體電子層高 2—3 個數(shù)量級. 若您需要進一步的了解詳細產(chǎn)品信息或討論 , 請參考以下聯(lián)絡方式 : 上海伯東 : 羅先生 伯東 : 王小姐 T: +86-21-5046-1322 T: +886-3-567-9508 ext 161 F: +86-21-5046-1490 F: +886-3-567-0049 M: +86 152-0195-1076 M: +886-939-653-958 ec@hakuto-vacuum.cn ec@hakuto.com.tw www.hakuto-china.cn www.hakuto-vacuum.com.tw 伯東版權(quán)所有, 翻拷必究! 產(chǎn)品實拍 伯東企業(yè)（上海）有限公司 高低溫試驗箱 離子源 制冷劑 真空閥門 公司簡介 伯東公司成立于1953 年，*范圍內(nèi)有一千七百名員工。
伯東企業(yè)(上海)有限公司(www.hakuto-vacuum.cn)主要從事半導體設備、電子零部件加工、銷售及相關服務工作，集團年營業(yè)額約為100億*。
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上海伯東真空產(chǎn)品事業(yè)部秉承為廣大中國客戶提供*一流的真空產(chǎn)品、推動中國真空工藝發(fā)展、承擔企業(yè)社會責任為經(jīng)營理念，已累計為超過10,000家企業(yè)提供真空服務，覆蓋工業(yè)、半導體、鍍膜、科研和分析行業(yè)。
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Hakuto離子蝕刻機10IBE應用于碲鎘汞晶體電學特性研究