靶材、眾誠達應(yīng)用材料公司、靶材廠家

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靶材的主要性能要求雜質(zhì)含量? ?靶材固體中的雜質(zhì)和氣孔中的氧氣和水氣是沉積薄膜的主要污染源。
不同用途的靶材對不同雜質(zhì)含量的要求也不同。
例如，靶材廠家，半導(dǎo)體工業(yè)用的純鋁及鋁合金靶材，對堿金屬含量和放射性元素含量都有特殊要求。
Ag及Ag合金靶材? ? ? ?Ag靶材主要應(yīng)用于光盤介質(zhì)的反射膜；STN液晶顯示裝置或有機EL顯示裝置等的光反射性薄膜。
在Ag合金中添加少量的In、Sn、Zn或Au、Pd、Pt，或根據(jù)情況添加少量的Cu，可將低濺射靶材電阻，提高靶材圖案形成性、耐熱性、反射率和耐硫化性等。
眾誠達主要經(jīng)營：濺射靶材、靶材、鉻靶、硅靶、銅靶、鎢鉬、鈦鋁靶 ?。
薄膜的純度與靶材的純度關(guān) 系極大，靶材，過去99.995 %（4 N5）純度的銅靶，靶材定制，或許能夠滿足半導(dǎo)體廠商0.3 5pm 工藝的需求，但是卻無法滿足目前0.2 5um的工藝要求，而未米的 0.18um 工藝甚至0.13m工藝，鎳鉑靶材，所需要的靶材純度將要求達到5甚至 6N以上。
銅與鋁相比較，銅具有更高的抗電遷移能力及更低的電阻率，能夠滿足！靶材、眾誠達應(yīng)用材料公司、靶材廠家由深圳市眾誠達應(yīng)用材料科技有限公司提供。
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