濺射靶材? ? ??北京石久高研金屬材料有限公司成立于2005年,錫靶、Sn, 石久高研致力于鍍膜靶材和蒸發(fā)料的研發(fā)和生產(chǎn)工作,為電子行業(yè)、玻璃工業(yè)、數(shù)據(jù)存儲、裝飾鍍膜、工具鍍膜等行業(yè)的鍍膜企業(yè)提供*的靶材和蒸發(fā)料。
公司主營金屬靶材、金屬材料、光學鍍膜材料等。
? ? ??濺射靶材主要應(yīng)用于電子及信息產(chǎn)業(yè),靶,如集成電路、信息存儲、液晶顯示屏、激光存儲器、電子控制器件等;亦可應(yīng)用于玻璃鍍膜領(lǐng)域;還可以應(yīng)用于耐磨材料、高溫耐蝕、裝飾用品等行業(yè)。
石久高研專注15年提供高純靶材 *、高純靶材歡迎來電咨詢~~ 濺射靶材? ??? 北京石久高研金屬材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于鍍膜靶材和蒸發(fā)料的研發(fā)和生產(chǎn)工作,為電子行業(yè)、玻璃工業(yè)、數(shù)據(jù)存儲、裝飾鍍膜、工具鍍膜等行業(yè)的鍍膜企業(yè)提供*的靶材和蒸發(fā)料。
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????? 靶材選擇規(guī)程????? 分類:1.薄膜應(yīng)用分類[1]:半導體功能(HfO2)、磁記錄、巨磁電阻(稀土合金或氧化物類)、顯示技術(shù)(ITO)、超導(Y2BaCu3O7);2.材料組成:金屬(合金)、氧化物類(Al2O3、SiO、SiO2、TiO2、Ti2O3、ZrO2等)、氟化物類(MgF2、BaF2、YF3、Na3AlF6等)、其它化合物類(ZnS、ZnSe、PbTe等)。
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