靶材的主要性能要求北京石久高研金屬材料有限公司成立于2005年, 鍺靶供應(yīng)商, 石久高研致力于鍍膜靶材和蒸發(fā)料的研發(fā)和生產(chǎn)工作,為電子行業(yè)、玻璃工業(yè)、數(shù)據(jù)存儲(chǔ)、裝飾鍍膜、工具鍍膜等行業(yè)的鍍膜企業(yè)提供*的靶材和蒸發(fā)料。
公司主營(yíng)金屬靶材、金屬材料、光學(xué)鍍膜材料等。
靶材的主要性能要求????? 純度純度是靶材的主要性能指標(biāo)之一,因?yàn)榘胁牡募兌葘?duì)薄膜的性能影響很大。
不過(guò)在實(shí)際應(yīng)用中,對(duì)靶材的純度要求也不盡相同。
例如,隨著微電子行業(yè)的迅速發(fā)展,硅片尺寸由6”, 8“發(fā)展到12”, 而布線寬度由0.5um減小到0.25um,0.18um甚至0.13um,以前99.995%的靶材純度可以滿足0.35umIC的工藝要求,而制備0.18um線條對(duì)靶材純度則要求99.999%甚至99.9999%。
雜質(zhì)含量靶材固體中的雜質(zhì)和氣孔中的氧氣和水氣是沉積薄膜的主要污染源。
不同用途的靶材對(duì)不同雜質(zhì)含量的要求也不同。
例如,半導(dǎo)體工業(yè)用的純鋁及鋁合金靶材,對(duì)堿金屬含量和放射性元素含量都有特殊要求。
密度為了減少靶材固體中的氣孔,提高濺射薄膜的性能,通常要求靶材具有較高的密度。
靶材的密度不僅影響濺射速率,還影響著薄膜的電學(xué)和光學(xué)性能。
靶材密度越高,薄膜的性能越好。
此外,提高靶材的密度和強(qiáng)度使靶材能更好地承受濺射過(guò)程中的熱應(yīng)力。
密度也是靶材的關(guān)鍵性能指標(biāo)之一。
晶粒尺寸及晶粒尺寸分布通常靶材為多晶結(jié)構(gòu), 鍺靶,晶粒大小可由微米到毫米量級(jí)。
對(duì)于同一種靶材,晶粒細(xì)小的靶的濺射速率比晶粒粗大的靶的濺射速率快;而晶粒尺寸相差較小(分布均勻)的靶濺射沉積的薄膜的厚度分布更均勻。
石久高研專注15年提供高純金屬靶材 ?*、高純靶材歡迎來(lái)電咨詢~~~ 高純金屬靶材北京石久高研金屬材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于鍍膜靶材和蒸發(fā)料的研發(fā)和生產(chǎn)工作,為電子行業(yè)、玻璃工業(yè)、數(shù)據(jù)存儲(chǔ)、裝飾鍍膜、工具鍍膜等行業(yè)的鍍膜企業(yè)提供*的靶材和蒸發(fā)料。
公司主營(yíng)金屬靶材、金屬材料、光學(xué)鍍膜材料等。
業(yè)內(nèi)人士指出,高純金屬及其合金濺射靶材是半導(dǎo)體集成電路及分立器材制造主要的PVD鍍膜原資料,應(yīng)用于金屬化技術(shù)中互連線、阻擋層、觸摸、通孔、背面金屬化層等薄膜的制備。
跟著國(guó)內(nèi)電子信息產(chǎn)業(yè)商場(chǎng)規(guī)模的敏捷擴(kuò)大, 鍺靶多少錢,靶材消耗量逐年添加,中國(guó)逐漸變成*上濺射靶材的很大需要區(qū)域之一。
經(jīng)過(guò)本次項(xiàng)目的建造,有研億金高純金屬靶材研制出產(chǎn)的才能和技能水平將得到大幅度提高, 鍺靶廠,一起具有自主*的高純金屬靶材將得到進(jìn)一步的開展和推廣。
與此一起,完成高質(zhì)量靶材的產(chǎn)業(yè)化,將會(huì)給有研新材帶來(lái)非常顯著的商場(chǎng)效益。
石久高研專注15年提供高純金屬靶材 ?*、高純靶材歡迎來(lái)電咨詢~~~靶材儲(chǔ)存? ? ??北京石久高研金屬材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于鍍膜靶材和蒸發(fā)料的研發(fā)和生產(chǎn)工作,為電子行業(yè)、玻璃工業(yè)、數(shù)據(jù)存儲(chǔ)、裝飾鍍膜、工具鍍膜等行業(yè)的鍍膜企業(yè)提供*的靶材和蒸發(fā)料。
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? ? ? ?高展金屬靶材所提供的靶材包裝在雙層真空塑料袋中, 我們建議用戶將靶材無(wú)論是金屬或陶瓷類保存在真空包裝中, 尤其是金屬靶材更需要保存在真空條件下,以避免帖合層氧化影響貼合質(zhì)量。
石久高研專注15年提供高純靶材 *、高純靶材歡迎來(lái)電咨詢~~ 鍺靶供應(yīng)商|石久高研(在線咨詢)| 鍺靶由北京石久高研金屬材料有限公司提供。
鍺靶供應(yīng)商|石久高研(在線咨詢)| 鍺靶是北京石久高研金屬材料有限公司(shijiugaoyan168.b2b.hc360.com)今年全新升級(jí)推出的,以上圖片僅供參考,請(qǐng)您撥打本頁(yè)面或圖片上的聯(lián)系電話,索取新的信息,聯(lián)系人:史永泰。
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