真空鍍膜靶材? ? ??北京石久高研金屬材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于鍍膜靶材和蒸發(fā)料的研發(fā)和生產(chǎn)工作,為電子行業(yè)、玻璃工業(yè)、數(shù)據(jù)存儲、裝飾鍍膜、工具鍍膜等行業(yè)的鍍膜企業(yè)提供*的靶材和蒸發(fā)料。
公司主營金屬靶材、金屬材料、光學鍍膜材料等。
? ? ??靶中毒的影響因素? ? ??影響靶中毒的因素主要是反應氣體和濺射氣體的比例,鍺靶加工,反應氣體過量就會導致靶中毒。
反應濺射工藝進行過程中靶表面濺射溝道區(qū)域內(nèi)出現(xiàn)被反應生成物覆蓋或反應生成物被剝離而重新暴露金屬表面此消彼長的過程。
如果化合物的生成速率大于化合物被剝離的速率,化合物覆蓋面積增加。
在一定功率的情況下,參與化合物生成的反應氣體量增加,北京鍺靶價格,化合物生成率增加。
如果反應氣體量增加過度,化合物覆蓋面積增加,如果不能及時調(diào)整反應氣體流量,化合物覆蓋面積增加的速率得不到抑制,濺射溝道將進一步被化合物覆蓋,當濺射靶被化合物全部覆蓋的時候,靶完全中毒,在靶面上沉積一層化合金屬膜。
使其很難被再次反應。
石久高研專注15年提供高純金屬靶材 ?*、高純靶材歡迎來電咨詢~~~ 濺射靶材? ? ??北京石久高研金屬材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于鍍膜靶材和蒸發(fā)料的研發(fā)和生產(chǎn)工作,為電子行業(yè)、玻璃工業(yè)、數(shù)據(jù)存儲、裝飾鍍膜、工具鍍膜等行業(yè)的鍍膜企業(yè)提供*的靶材和蒸發(fā)料。
公司主營金屬靶材、金屬材料、光學鍍膜材料等。
? ? ??背靶材料無氧銅(OFC)– 目前最常使用的作背靶的材料是無氧銅,鍺靶廠家,因為無氧銅具有良好的導電性和導熱性,而且比較容易機械加工。
如果保養(yǎng)適當,無氧銅背靶可以重復使用10次甚至更多。
? ? ??鉬(Mo)– 在某些使用條件比較特殊的情況下,如需要進行高溫帖合的條件下,鍺靶,無氧化銅容易被氧化和發(fā)生翹曲, 所以會使用金屬鉬為背靶材料或某些靶材如陶瓷甚至某些金屬靶材的熱膨脹系數(shù)無法與無氧銅匹配,同樣也需要使用金屬鉬作為背靶材料。
不銹鋼管(SST)– 目前最常使用不銹鋼管作為旋轉(zhuǎn)靶材的背管,因為不銹鋼管具有良好的強度和導熱性而且非常經(jīng)濟石久高研專注15年提供高純金屬靶材 ?*、高純靶材歡迎來電咨詢~~~ 北京鍺靶價格|鍺靶|石久高研(查看)由北京石久高研金屬材料有限公司提供。
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