濺射靶材北京石久高研金屬材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于鍍膜靶材和蒸發(fā)料的研發(fā)和生產工作,為電子行業(yè)、玻璃工業(yè)、數(shù)據存儲、裝飾鍍膜、工具鍍膜等行業(yè)的鍍膜企業(yè)提供*的靶材和蒸發(fā)料。
公司主營金屬靶材、金屬材料、光學鍍膜材料等。
高純銅靶材主要應用領域平面顯示器產業(yè):平面顯示器包括液晶顯示器(LCD)、等離子體顯示器(PDP)等等。
目前,在平面顯示器市場中以液晶顯示器(LCD)為主,其市場占有率超過85%,被認為是目前最有應用前景的平面顯示器件,廣泛應用于筆記本電腦顯示器、臺式電腦監(jiān)視器和高清晰電視機。
LCD的制造工藝較復雜,其中降低反射層、透明電極、發(fā)射極與陰極均由濺射方法形成,因此,在LCD產業(yè)中濺射靶材起著重要作用。
高純度銅靶材在以上領域都有廣泛應用, 鍺靶供應商,并且對所需濺射靶材的質量提出了越來越高的要求。
石久高研專注15年提供高純金屬靶材 ?*、高純靶材歡迎來電咨詢~~~ 什么是金屬靶材? ? ??北京石久高研金屬材料有限公司成立于2005年,?石久高研致力于鍍膜靶材和蒸發(fā)料的研發(fā)和生產工作,為電子行業(yè)、玻璃工業(yè)、數(shù)據存儲、裝飾鍍膜、工具鍍膜等行業(yè)的鍍膜企業(yè)提供*的靶材和蒸發(fā)料。
公司主營金屬靶材、金屬材料、光學鍍膜材料等。
? ? ??金屬靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標材料。
有金屬類、合金類、氧化物類等等。
鎢-鈦(W-Ti)膜以及以鎢-鈦(W-Ti)為基的合金膜是高溫合金膜,具有一系列不可替代的優(yōu)良性能。
鎢具有高熔點、高強度和低的熱膨脹系數(shù)等性能, 鍺靶廠,W/ Ti 合金具有低的電阻系數(shù)、良好的熱穩(wěn)定性能。
如各種器件都需要起到導電作用的金屬布線,例如Al 、Cu 和Ag 等已經被廣泛的應用和研究。
石久高研專注15年提供高純靶材 *、高純靶材歡迎來電咨詢~~真空鍍膜靶材北京石久高研金屬材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于鍍膜靶材和蒸發(fā)料的研發(fā)和生產工作,為電子行業(yè)、玻璃工業(yè)、數(shù)據存儲、裝飾鍍膜、工具鍍膜等行業(yè)的鍍膜企業(yè)提供*的靶材和蒸發(fā)料。
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靶中毒的影響因素影響靶中毒的因素主要是反應氣體和濺射氣體的比例,反應氣體過量就會導致靶中毒。
反應濺射工藝進行過程中靶表面濺射溝道區(qū)域內出現(xiàn)被反應生成物覆蓋或反應生成物被剝離而重新暴露金屬表面此消彼長的過程。
如果化合物的生成速率大于化合物被剝離的速率,化合物覆蓋面積增加。
在一定功率的情況下, 鍺靶,參與化合物生成的反應氣體量增加,化合物生成率增加。
如果反應氣體量增加過度,化合物覆蓋面積增加,如果不能及時調整反應氣體流量,化合物覆蓋面積增加的速率得不到抑制,濺射溝道將進一步被化合物覆蓋, 鍺靶批發(fā),當濺射靶被化合物全部覆蓋的時候,靶完全中毒,在靶面上沉積一層化合金屬膜。
使其很難被再次反應。
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