鍺靶_ 鍺靶批發(fā)_石久高研

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金屬靶材北京石久高研金屬材料有限公司成立于2005年，石久高研致力于鍍膜靶材和蒸發(fā)料的研發(fā)和生產(chǎn)工作，為電子行業(yè)、玻璃工業(yè)、數(shù)據(jù)存儲、裝飾鍍膜、工具鍍膜等行業(yè)的鍍膜企業(yè)提供*的靶材和蒸發(fā)料。
公司主營金屬靶材、金屬材料、光學(xué)鍍膜材料等。
濺射靶材使用指南及注意事項(xiàng)靶材預(yù)濺射 ?靶材預(yù)濺射建議采用純氬氣進(jìn)行濺射，可以起到清潔靶材表面的作用。
靶材進(jìn)行預(yù)濺射時建議慢慢加大濺射功率，鍺靶批發(fā)價格，陶瓷類靶材的功率加大速率建議為1.5W小時/平方厘米。
金屬類靶材的預(yù)濺射速度可以比陶瓷靶材塊，一個合理的功率加大速率為1.5W小時/平方厘米。
?在進(jìn)行預(yù)濺射的同時需要檢查靶材起弧狀況，鍺靶批發(fā)，預(yù)濺射時間一般為10分鐘左右。
如沒有起弧現(xiàn)象，繼續(xù)提升濺射功率到設(shè)定功率。
根據(jù)經(jīng)驗(yàn)，金屬靶材可承受的濺射功率為25watts/平方厘米，陶瓷靶材為10watts/平方厘米。
請同時參考用戶系統(tǒng)操作手冊中關(guān)于濺射時真空腔體壓力的設(shè)定根據(jù)經(jīng)驗(yàn)，一般應(yīng)確保冷卻水出水口的水溫應(yīng)低于35攝氏度，但最重要的是確保冷卻水的循環(huán)系統(tǒng)能有效工作，通過冷卻水的快速循環(huán)帶走熱量，鍺靶多少錢，是確保能以較高功率連續(xù)濺射的一項(xiàng)重要保障。
對于金屬靶材一般建議冷卻水流量為20LPM水壓在5GMP左右；對于陶瓷靶材一般建議水流量在30LPM水壓在9GMP左右。
石久高研專注15年提供高純金屬靶材? *、高純靶材歡迎來電咨詢~~~ 濺射靶材北京石久高研金屬材料有限公司成立于2005年，石久高研致力于鍍膜靶材和蒸發(fā)料的研發(fā)和生產(chǎn)工作，為電子行業(yè)、玻璃工業(yè)、數(shù)據(jù)存儲、裝飾鍍膜、工具鍍膜等行業(yè)的鍍膜企業(yè)提供*的靶材和蒸發(fā)料。
公司主營金屬靶材、金屬材料、光學(xué)鍍膜材料等。
靶材的主要性能要求:為了減少靶材固體中的氣孔，提高濺射薄膜的性能，通常要求靶材具有較高的密度。
靶材的密度不僅影響濺射速率，還影響著薄膜的電學(xué)和光學(xué)性能。
靶材密度越高，薄膜的性能越好。
此外，提高靶材的密度和強(qiáng)度使靶材能更好地承受濺射過程中的熱應(yīng)力。
密度也是靶材的關(guān)鍵性能指標(biāo)之一。
石久高研專注15年提供高純金屬靶材 ?*、高純靶材歡迎來電咨詢~~~高純銅靶材的應(yīng)用領(lǐng)域及發(fā)展趨勢北京石久高研金屬材料有限公司成立于2005年，石久高研致力于鍍膜靶材和蒸發(fā)料的研發(fā)和生產(chǎn)工作，為電子行業(yè)、玻璃工業(yè)、數(shù)據(jù)存儲、裝飾鍍膜、工具鍍膜等行業(yè)的鍍膜企業(yè)提供*的靶材和蒸發(fā)料。
公司主營金屬靶材、金屬材料、光學(xué)鍍膜材料等。
高純銅靶材的應(yīng)用領(lǐng)域及發(fā)展趨勢????? 高純銅靶材主要應(yīng)用領(lǐng)域高純銅靶材主要應(yīng)用于電子及信息產(chǎn)業(yè)，如集成電路、信息存儲、液晶顯示屏、激光存儲器、電子控制器件等;可應(yīng)用于玻璃鍍膜領(lǐng)域;還可以應(yīng)用于耐磨材料、高溫耐蝕、*裝飾用品等行業(yè)。
信息存儲產(chǎn)業(yè)：隨著信息及計(jì)算機(jī)技術(shù)的不斷發(fā)展，*市場對記錄介質(zhì)的需求量越來越大，與之相應(yīng)的記錄介質(zhì)用靶材市場也不斷擴(kuò)大，其相關(guān)產(chǎn)品有硬盤、磁頭、光盤(CD-ROM，CD-R，DVD-R等)、磁光相變光盤(MO，鍺靶，CD-RW，DVD-RAM)。
集成電路產(chǎn)業(yè)：在半導(dǎo)體應(yīng)用領(lǐng)域，靶材是*靶材市場的主要組成之一，主要用于電極互連線膜、阻擋層薄膜、接觸薄膜、光盤掩膜、電容器電極膜、電阻薄膜等方面。
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自成立以來，我們堅(jiān)持以“誠信為本，穩(wěn)健經(jīng)營”的方針，勇于參與市場的良性競爭，使“石久高純靶材”品牌擁有良好口碑。
我們堅(jiān)持“服務(wù)至上，*”的原則，使石久高研在其它中贏得了眾的客戶的信任，樹立了良好的企業(yè)形象。
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