濺射靶材北京石久高研金屬材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于鍍膜靶材和蒸發(fā)料的研發(fā)和生產(chǎn)工作,為電子行業(yè)、玻璃工業(yè)、數(shù)據(jù)存儲(chǔ)、裝飾鍍膜、工具鍍膜等行業(yè)的鍍膜企業(yè)提供*的靶材和蒸發(fā)料。
公司主營(yíng)金屬靶材、金屬材料、光學(xué)鍍膜材料等。
靶材的成分與結(jié)構(gòu)均勻性 為了保證濺射薄膜均勻,尤其在復(fù)雜的大面積鍍膜應(yīng)用方面,必須做到靶材成分與結(jié)構(gòu)均勻性好,這也是考察陶瓷靶材質(zhì)量的重要指標(biāo)之一。
例如,氧化銻多少錢,為了保證質(zhì)量,要求ITO靶中In2O3, SnO2組成均勻,都為93:7或91:9(分子比)。
特別是濺射靶材的微觀結(jié)構(gòu)均勻性對(duì)濺射時(shí)的成膜速率、沉積薄膜的質(zhì)量及厚度分布等均有很大的影響。
根據(jù)有關(guān)研究表明,細(xì)晶粒(<100μm)結(jié)構(gòu)濺射靶材的成膜速率大于粗晶粒靶。
因此,當(dāng)陶瓷靶材在靶面尺寸上的晶粒分布不均勻時(shí),將造成沉積薄膜厚度分布的不均勻現(xiàn)象。
石久高研專注15年提供高純金屬靶材 ?*、高純靶材歡迎來(lái)電咨詢~~~ 金屬靶材? ? ?北京石久高研金屬材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于鍍膜靶材和蒸發(fā)料的研發(fā)和生產(chǎn)工作,氧化銻出售,為電子行業(yè)、玻璃工業(yè)、數(shù)據(jù)存儲(chǔ)、裝飾鍍膜、工具鍍膜等行業(yè)的鍍膜企業(yè)提供*的靶材和蒸發(fā)料。
公司主營(yíng)金屬靶材、金屬材料、光學(xué)鍍膜材料等。
? ? ? 金屬靶材材質(zhì)分類:? ? ??⒈金屬靶材鎳靶、Ni、鈦靶、Ti、鋅靶、Zn、鉻靶、Cr、鎂靶、Mg、鈮靶、Nb、錫靶、Sn、鋁靶、Al、銦靶、In、鐵靶、Fe、鋯鋁靶、ZrAl、鈦鋁靶、TiAl、鋯靶、Zr、鋁硅靶、AlSi、硅靶、Si、銅靶Cu、鉭靶T、a、鍺靶、Ge、銀靶、Ag、鈷靶、Co、金靶、Au、釓靶、Gd、鑭靶、La、釔靶、Ce、鎢靶、w、不銹鋼靶、鎳鉻靶、NiCr、鉿靶、Hf、鉬靶、Mo、鐵鎳靶、FeNi、鎢靶、W等。
石久高研專注15年提供高純金屬靶材 ?*、高純靶材歡迎來(lái)電咨詢~~~濺射靶材磁控濺射的原理北京石久高研金屬材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于鍍膜靶材和蒸發(fā)料的研發(fā)和生產(chǎn)工作,為電子行業(yè)、玻璃工業(yè)、數(shù)據(jù)存儲(chǔ)、裝飾鍍膜、工具鍍膜等行業(yè)的鍍膜企業(yè)提供*的靶材和蒸發(fā)料。
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濺射靶材磁控濺射的原理? 磁控濺射原理:電子在電場(chǎng)的作用下加速飛向基片的過(guò)程中與氬原子發(fā)生碰撞,電離出大量的氬離子和電子,電子飛向基片。
氬離子在電場(chǎng)的作用下加速轟擊靶材,濺射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉積在基片上成膜。
二次電子在加速飛向基片的過(guò)程中受到磁場(chǎng)洛侖磁力的影響,氧化銻廠,被束縛在靠近靶面的等離子體區(qū)域內(nèi),該區(qū)域內(nèi)等離子體密度很高,二次電子在磁場(chǎng)的作用下圍繞靶面作圓周運(yùn)動(dòng),該電子的運(yùn)動(dòng)路徑很長(zhǎng), 在運(yùn)動(dòng)過(guò)程中不斷的與氬原子發(fā)生碰撞電離出大量的氬離子轟擊靶材,經(jīng)過(guò)多次碰撞后電子的能量逐漸降低,擺脫磁力線的束縛,遠(yuǎn)離靶材,最終沉積在基片上。
在電場(chǎng)的作用下,Ar氣電離成正離子和電子,靶上加有一定的負(fù)高壓,從靶極發(fā)出的電子受磁場(chǎng)的作用與工作氣體的電離幾率增大,氧化銻,在陰極附近形成高密度的等離子體,Ar離子在洛侖茲力的作用下加速飛向靶面,以很高的速度轟擊靶面,使靶上被濺射出來(lái)的原子遵循動(dòng)量轉(zhuǎn)換原理以較高的動(dòng)能脫離靶面飛向基片淀積成膜。
磁控濺射一般分為二種:直流濺射和射頻濺射,其中直流濺射設(shè)備原理簡(jiǎn)單,在濺射金屬時(shí),其速率也快。
而射頻濺射的使用范圍更為廣泛,除可濺射導(dǎo)電材料外,也可濺射非導(dǎo)電的材料,同時(shí)還司進(jìn)行反應(yīng)濺射制備氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料。
濺射靶材射頻的頻率提高后就成為微波等離子體濺射,目前常用的有電子回旋共振(ECR)型微波等離子體濺射。
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