等離子噴靶材*設(shè)備 供應(yīng)生產(chǎn)線--鍍膜靶材噴涂及*的制造設(shè)備技術(shù) 生產(chǎn)線---鍍膜靶材噴涂及制造設(shè)備技術(shù)特點： 應(yīng)用于玻璃鍍膜（建筑玻璃和汽車玻璃）工業(yè) 產(chǎn)品遠銷東南亞等地率提高后就成為微波等離子體濺射，目前常用的有電子回旋共振(ECR)型微波等離子體濺射。
磁控濺射鍍膜是一種新型的物*相鍍膜方式，較之較早點的蒸發(fā)鍍膜方式，其很多方面的優(yōu)勢相當(dāng)明顯。
作為一項已經(jīng)發(fā)展的較為成熟的技術(shù)，磁控濺射已經(jīng)被應(yīng)用于許多領(lǐng)域。
磁控濺射原理：在被濺射的靶極(陰極)與陽極之間加一個正交磁場和電場，在高真空室中充入所需要的惰性氣體(通常為Ar氣)，*磁鐵在靶材料表面形成250～350高斯的磁場，同高壓電場組成正交電磁場。
在電場的作用下，Ar氣電離成正離子和電子，靶上加有一定的負(fù)高壓，從靶極發(fā)出的電子受磁場的作用與工作氣體的電離幾率增大，在陰極附近形成高密度的等離子體，Ar離子在洛侖茲力的作用下加速飛向靶面，以很高的速度轟擊靶面，使靶上被濺射出來的原子遵循動量轉(zhuǎn)換原理以較高的動能脫離靶面飛向基片淀積成膜。
磁控濺射一般分為二種：支流濺射和射頻濺射，其中支流濺射設(shè)備原理簡單，在濺射金屬時，其速率也快。
而射頻濺射的使用范圍更為廣泛，除可濺射導(dǎo)電材料外，也可濺射非導(dǎo)電的材料，同時還司進行反應(yīng)濺射制備氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料。
若射頻的頻 生產(chǎn)線---鍍膜靶材噴涂及制造設(shè)備技術(shù)構(gòu)成： 采用等離子噴涂?? （提供 SX~R全自動噴砂設(shè)備、SX~30KW全自動噴涂設(shè)備、系列配置靶材噴涂*粉制設(shè)備及工藝、噴涂房配置設(shè)計等*方案） ? 生產(chǎn)線---鍍膜靶材噴涂及制造設(shè)備技術(shù)應(yīng)用領(lǐng)域： 本公司采用等離子噴涂生產(chǎn)靶的方法，專業(yè)研發(fā)、生產(chǎn)和銷售真空磁控濺射靶材，應(yīng)用于玻璃鍍膜（建筑玻璃和汽車玻璃）工業(yè)等行業(yè)，主要靶材包括：鉻靶、鈦靶、*靶等，本公司可根據(jù)客戶要求研發(fā)出能滿足客戶要求的各種靶材噴涂制造技術(shù)并提供： ?????*鉻靶、鈦靶、*靶的噴涂制造技術(shù)方案 ?? *鉻靶、鈦靶、*靶的噴涂工藝和參數(shù) ?? *鉻靶、鈦靶、*靶的噴涂技術(shù)工人培訓(xùn) ?? *靶材等離子噴涂制造的生產(chǎn)線交鑰匙工程 ?? *管靶噴涂制造的各種工裝、夾具的設(shè)計和加工 ?? *靶材等離子噴涂粉的選型、配比、制粉工藝 ?? *靶材等離子噴涂制粉設(shè)備交鑰匙工程 ? 生產(chǎn)線---鍍膜靶材噴涂及制造設(shè)備技術(shù)加工系列： 磁控濺射鍍膜靶材：金屬濺射鍍膜靶材，合金濺射鍍膜靶材，陶瓷濺射鍍膜靶材，硼化物陶瓷濺射靶材，碳化物陶瓷濺射靶材，氟化物陶瓷濺射靶材，氮化物陶瓷濺射靶材，氧化物陶瓷靶材，硒化物陶瓷濺射靶材，硅化物陶瓷濺射靶材，硫化物陶瓷濺射靶材，碲化物陶瓷濺射靶材，其他陶瓷靶材，摻鉻一氧化硅陶瓷靶材(Cr-SiO)，磷化銦靶材(InP)，*化鉛靶材(PbAs)，*化銦靶材(InAs)。
高純高密度建設(shè)靶材有：濺射靶材（純度：99.9%-99.999%） 金屬靶材：鎳靶、Ni、鈦靶、Ti、鋅靶、Zn、鉻靶、Cr、鎂靶、Mg、鈮靶、Nb、錫靶、Sn、鋁靶、Al、銦靶、In、鐵靶、Fe、鋯鋁靶、ZrAl、鈦鋁靶、TiAl、鋯靶、Zr、鋁硅靶、AlSi、硅靶、Si、銅靶Cu、鉭靶T、a、鍺靶、Ge、銀靶、Ag、鈷靶、Co、金靶、Au、釓靶、Gd、鑭靶、La、釔靶、Y、鈰靶、Ce、鎢靶、w、不銹鋼靶、鎳鉻靶、NiCr、鉿靶、Hf、鉬靶、Mo、鐵鎳靶、FeNi、鎢靶、W等。
服務(wù)與質(zhì)量承諾： 一、靶材等離子噴涂制粉設(shè)備交鑰匙工程 二、靶材等離子噴涂粉的選型、配比、制粉工藝 ? 1、設(shè)備安裝調(diào)試與操作人員培訓(xùn)。
設(shè)備設(shè)有質(zhì)量的安全保用期. 2、我們的質(zhì)量方針是：“以滿意的產(chǎn)品，真誠的服務(wù)，鮮明的特色，滿足顧客的需求”。
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