北京市大興縣東光電鍍廠是北京*六角閥門電鍍鉻加工廠，報(bào)價(jià)實(shí)惠，24小時(shí)服務(wù)熱線：13001991013。
鍍液中各成分的作用 1）鉻酐 鉻酐的水溶液是*，是鉻鍍層的惟一來源。
實(shí)踐證明，鉻酐的濃度可以在很寬的范圍內(nèi)變動(dòng)。
例如，當(dāng)溫度在45～50℃，陰極電流密度l0A/dm2時(shí)，鉻酐濃度在50～500g/L范圍內(nèi)變動(dòng)，甚至高達(dá)800g/L時(shí)，均可獲得光亮鍍鉻層。
但這并不表示鉻酐濃度可以隨意改變，一般生產(chǎn)中采用的鉻酐濃度為l50～400g/L之間。
鉻酐的濃度對(duì)鍍液的電導(dǎo)率起決定作用，圖4—19所示為鉻酐濃度與鍍液電導(dǎo)率的關(guān)系。
可知在每一個(gè)溫度下都有一個(gè)相應(yīng)于*電導(dǎo)率的鉻酐濃度；鍍液溫度升高，電導(dǎo)率*值隨鉻酐濃度增加向稍高的方向移動(dòng)。
因此，單就電導(dǎo)率而言，宜采用鉻酐濃度較高的鍍鉻液。
但采用高濃度*電解液時(shí)，由于隨工件帶出損失嚴(yán)重，一方面造成材料的無謂消耗，同時(shí)還對(duì)環(huán)境造成一定的污染。
而低濃度鍍液對(duì)雜質(zhì)金屬離子比較敏感，覆蓋能力較差。
鉻 酐濃度過高或過低都將使獲得光亮鍍層的溫度和電流密度的范圍變窄。
含鉻酐濃度低的鍍液電流效率高，多用于鍍硬鉻。
較濃的鍍液主要用于裝飾電鍍，鍍液的性能雖然與鉻酐含量有關(guān)，最主要的取決于鉻酐和*的比值。
2）催化劑 除*根外，氟化物、*鹽、*鹽以及這些陰離子的混合物常常作為鍍鉻的催化劑。
當(dāng)催化劑含量過低時(shí)，得不到鍍層或得到的鍍層很少，主要是棕色氧化物。
若催化劑過量時(shí)，會(huì)造成覆蓋能力差、電流效率下降，并可能導(dǎo)致局部或全部沒有鍍層。
目前應(yīng)用較廣泛的催化劑為*。
*的含量取決于鉻酐與*的比值，一般控制在Cr03:So4=(80～100）：1，*值為100：1。
當(dāng)So42-含量過高時(shí)，對(duì)膠體膜的溶解作用強(qiáng)，基體露出的面積大，真實(shí)電流密度小，陰極極化小，得到的鍍層不均勻，有時(shí)發(fā)花，特別是凹處還可能露出基體金屬。
當(dāng)生產(chǎn)上出現(xiàn)上述問題時(shí)，應(yīng)根據(jù)化學(xué)分析的結(jié)果，在鍍液中添加適量的碳酸鋇，然后過 濾去除生成的*鋇沉淀即可。
當(dāng)So42-含量過低時(shí)，鍍層發(fā)灰粗糙，光澤性差。
因?yàn)镾o42-含量太低，陰極表面上只有很少部位的膜被溶解，即成膜的速度大于溶解的速度，鉻的析出受阻或在局部地區(qū)放電長大，所以得到的鍍層粗糙。
此時(shí)向鍍液中加入適量的*即可。
用含氟的陰離子（F一、SiF62-、BF4-）為催化劑時(shí)，其濃度為鉻酐含量的1．5%～4%，這類鍍液的優(yōu)點(diǎn)是：鍍液的陰極電流效率高，鍍層硬度大，使用的電流密度較低，不僅適用于掛鍍，也適用于滾鍍。
中國使用較多的是*根離子，它兼有活化鍍層表面的作用，在電流中斷或二次鍍鉻時(shí)，仍能得到光亮鍍層，也能用于滾鍍鉻。
一般加入H2SiF4或Na2SiF6（或K2SiF6）作為SiF62-的主要來源。
含siF2一離子的鍍液，隨溫度升高，其工作范圍較So42-離子的鍍液寬。
該鍍液的缺點(diǎn)是對(duì)工件、陽極、鍍槽的腐蝕性大，維護(hù)要求高，所以不可能完全代替含有So42-的鍍液。
目前不少廠家將So42-和siF62-混合使用，效果較好。
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