產(chǎn)品參數(shù) 含量≥：99.999% 產(chǎn)品等級(jí)：工業(yè)級(jí) 執(zhí)行質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)：不限 CAS：CF4 產(chǎn)品特點(diǎn) 四氟化碳 （CF4) 項(xiàng)目名稱 純度指標(biāo)（%） 四氟化碳 ≥99.999 雜質(zhì)含量（ppm) 氧氣（O2） ≤5 水（H2O） ≤2 氮?dú)猓∟2) ≤2 *（CO2) ≤1 *（CO） ≤1 碳?xì)浠衔铮ǎ? ≤1 包裝：采用47L、44L鋼瓶充裝，也可根據(jù)客戶需要，分裝到8L的氣瓶中。
用途：四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量*的等離子蝕刻氣體 ,其高純氣及四氟化碳高純氣配高純氧氣的混合氣,可廣泛應(yīng)用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻，在電子器件表面清洗、太陽能電池的生產(chǎn)、激光技術(shù)、氣相絕緣、低溫制冷、泄漏檢驗(yàn)劑、控制*火箭姿態(tài)、印刷電路生產(chǎn)中的去污劑等方面也大量使用。
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