?高純金屬碳靶材 C靶材? 磁控濺射靶材 電子鍍膜蒸發(fā)料 ?純度:99.99% 中文名 ?碳 分子量 12.01 化學(xué)物質(zhì)登錄號(hào) 7440-44-0 EINECS登錄號(hào) 231-153-3 熔? ? 點(diǎn) 3500C?? 沸? ? 點(diǎn) 4827℃ 標(biāo)簽: C靶材 碳靶材 ? C靶材 碳靶材 ? 北京市高純金屬 ? 北京市高純金屬?gòu)S家

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