產(chǎn)品參數(shù) 加工定制：是 品牌：其他 電鍍位置：其他 鍍種：真空鍍膜 型號(hào)：KT-Z1650PVD 適用范圍：金屬靶材鍍膜 產(chǎn)品別名：小型蒸鍍儀 電鍍電源：直流電源 規(guī)格：臺(tái) 樣品臺(tái)：直徑50mm *功率：1000w 濺射電源：直流濺射電源 產(chǎn)品特點(diǎn) 小型直流磁控濺射儀， 離子濺射儀為一種有著緊湊結(jié)構(gòu)的桌上型鍍膜系統(tǒng)，對(duì)于掃描電鏡成像中非導(dǎo)電樣品高質(zhì)量鍍膜尤為適用。
試樣干燥清潔為離子濺射鍍膜的基本要求。
在必要時(shí)，交換試樣與陰極的位置利用火花放電從而對(duì)試樣表面進(jìn)行清潔，之后試樣復(fù)原，再進(jìn)行濺射鍍膜。
鐵、鎳、銅鉛等為離子濺射儀常用的陰極材料，有時(shí)電剛金、鉑、鈀、銦和其他金屬也能夠作為陰極材料，氧氣為離子濺射儀常用的反應(yīng)氣體 小型濺射儀是一種常見的表面處理設(shè)備，它主要用于在各種材料表面上構(gòu)建薄膜。
為了制備薄膜，小型濺射儀采用了一種將固體材料轉(zhuǎn)化為氣態(tài)的方法，稱為濺射。
在小型濺射儀中，工件通常是放置在真空室內(nèi)，并通過電極與濺射源相連。
在真空環(huán)境下，高能量的離子將撞擊濺射源，將其噴出的材料轉(zhuǎn)化為氣態(tài)粒子，并沉積在工件表面上，形成一層均勻的薄膜。
小型濺射儀可以利用不同的材料和材料的混合來制備許多種不同的薄膜，包括金屬、陶瓷、高分子材料等。
這些薄膜通常用于電子、光學(xué)、生物、磁性和化學(xué)領(lǐng)域的應(yīng)用中。
小型濺射儀通常具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、易于維護(hù)、占用空間小的特點(diǎn)，其尺寸也相對(duì)較小，適合進(jìn)行小規(guī)模的實(shí)驗(yàn)和研究。
此外，小型濺射儀可以與其他設(shè)備相結(jié)合，例如電子束蒸發(fā)設(shè)備和離子注入設(shè)備，以實(shí)現(xiàn)更多的表面處理功能。
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