金屬靶材北京石久高研金屬材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于鍍膜靶材和蒸發(fā)料的研發(fā)和生產(chǎn)工作,為電子行業(yè)、玻璃工業(yè)、數(shù)據(jù)存儲(chǔ)、裝飾鍍膜、工具鍍膜等行業(yè)的鍍膜企業(yè)提供*的靶材和蒸發(fā)料。
公司主營(yíng)金屬靶材、金屬材料、光學(xué)鍍膜材料等。
濺射靶材使用指南及注意事項(xiàng)靶材預(yù)濺射 ?靶材預(yù)濺射建議采用純氬氣進(jìn)行濺射,可以起到清潔靶材表面的作用。
靶材進(jìn)行預(yù)濺射時(shí)建議慢慢加大濺射功率,陶瓷類靶材的功率加大速率建議為1.5W小時(shí)/平方厘米。
金屬類靶材的預(yù)濺射速度可以比陶瓷靶材塊,一個(gè)合理的功率加大速率為1.5W小時(shí)/平方厘米。
?在進(jìn)行預(yù)濺射的同時(shí)需要檢查靶材起弧狀況,預(yù)濺射時(shí)間一般為10分鐘左右。
如沒(méi)有起弧現(xiàn)象,繼續(xù)提升濺射功率到設(shè)定功率。
根據(jù)經(jīng)驗(yàn),金屬靶材可承受的濺射功率為25watts/平方厘米,陶瓷靶材為10watts/平方厘米。
請(qǐng)同時(shí)參考用戶系統(tǒng)操作手冊(cè)中關(guān)于濺射時(shí)真空腔體壓力的設(shè)定根據(jù)經(jīng)驗(yàn),一般應(yīng)確保冷卻水出水口的水溫應(yīng)低于35攝氏度,但最重要的是確保冷卻水的循環(huán)系統(tǒng)能有效工作,通過(guò)冷卻水的快速循環(huán)帶走熱量,是確保能以較高功率連續(xù)濺射的一項(xiàng)重要保障。
對(duì)于金屬靶材一般建議冷卻水流量為20LPM水壓在5GMP左右;對(duì)于陶瓷靶材一般建議水流量在30LPM水壓在9GMP左右。
石久高研專注15年提供高純金屬靶材? *、高純靶材歡迎來(lái)電咨詢~~~ 光學(xué)鍍膜 ? ??? 北京石久高研金屬材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于鍍膜靶材和蒸發(fā)料的研發(fā)和生產(chǎn)工作,為電子行業(yè)、玻璃工業(yè)、數(shù)據(jù)存儲(chǔ)、裝飾鍍膜、工具鍍膜等行業(yè)的鍍膜企業(yè)提供*的靶材和蒸發(fā)料。
公司主營(yíng)金屬靶材、金屬材料、光學(xué)鍍膜材料等。
????? 技術(shù)特征????? 1)第1代抗磨損膜技術(shù)????? 抗磨損膜始于20世紀(jì)70年代初,當(dāng)時(shí)認(rèn)為玻璃鏡片不易磨制是因?yàn)槠溆捕雀?,而有機(jī)鏡片則太軟所以容易磨損。
因此將石英材料于真空條件下鍍?cè)谟袡C(jī)鏡片表面,形成一層非常硬的抗磨損膜,但由于其熱脹系數(shù)與片基材料的不匹配,鉿靶材廠家,很容易脫膜和膜層脆裂,因此抗磨損效果不理想。
????? 2)第二代抗磨損膜技術(shù)????? 20世紀(jì)80年代以后,研究人員從理論上發(fā)現(xiàn)磨損產(chǎn)生的機(jī)理不僅僅與硬度相關(guān),鉿靶材價(jià)格,膜層材料具有“硬度/形變”的雙重特性,即有些材料的硬度較高,但變形較小,而有些材料硬度較低,但變形較大。
第二代的抗磨損膜技術(shù)就是通過(guò)浸泡工藝法在有機(jī)鏡片的表面鍍上一種硬度高且不易脆裂的材料。
????? 3)第三代抗磨損膜技術(shù)????? 第三代的抗磨損膜技術(shù)是20世紀(jì)90年代以后發(fā)展起來(lái)的,主要是為了解決有機(jī)鏡片鍍上減反射膜層后的耐磨性問(wèn)題。
由于有機(jī)鏡片片基的硬度和減反射膜層的硬度有很大的差別,新的理論認(rèn)為在兩者之間需要有一層抗磨損膜層,使鏡片在受到砂礫磨擦?xí)r能起緩沖作用,北京鉿靶材,并而不容易產(chǎn)生劃痕。
第三代抗磨損膜層材料的硬度介于減反射膜和鏡片片基的硬度之間,其磨擦系數(shù)低且不易脆裂。
????? 4)第四代抗磨損膜技術(shù)????? 第四代的抗膜技術(shù)是采用了硅原子,例如法國(guó)依視路公司的帝鍍斯(TITUS)加硬液中既含有有機(jī)基質(zhì),又含有包括硅元素的無(wú)機(jī)超微粒物,使抗磨損膜具備韌性的同時(shí)又提高了硬度。
現(xiàn)代的鍍抗磨損膜技術(shù)最主要的是采用浸泡法,鉿靶材,即鏡片經(jīng)過(guò)多道清洗后,浸入加硬液中,一定時(shí)間后,以一定的速度提起。
這一速度與加硬液的黏度有關(guān),并對(duì)抗磨損膜層的厚度起決定作用。
提起后在100 °C左右的烘箱中聚合4-5小時(shí),鍍層厚約3-5微米。
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