科研實驗*氮化鋁靶材AlN磁控濺射靶材電子束鍍膜蒸發(fā)料 產(chǎn)品介紹 ? ? ?氮化鋁（AlN）屬類金剛石氮化物、六方晶系，纖鋅礦型的晶體結(jié)構(gòu)，無毒，呈白色或灰白色，是共價鍵化合物，原子晶體。
氮化鋁應(yīng)用於光電工程，包括在光學(xué)儲存介面及電子基質(zhì)作誘電層，在高的導(dǎo)熱性下作晶片載體，以及作軍事用途。
由于氮化鋁壓電效應(yīng)的特性 產(chǎn)品參數(shù) 中文名 氮化鋁 ? ? ? ? ? ?沸點 2249 化學(xué)式 AlN ? ? ? ? ? ? ? ?熔點 2200℃ 密度 3.235g/cm3 ? ? ?純度 99.99% 產(chǎn)品介紹 ? ? ?ITO 是一種N型氧化物半導(dǎo)體-氧化銦錫，ITO薄膜即銦錫氧化物半導(dǎo)體透明導(dǎo)電膜，通常有兩個性能指標：電阻率和透光率。
多用于觸控面板、觸摸屏、冷光片等。
產(chǎn)品參數(shù) 中文名 氧化銦錫 ? ? ? ?化學(xué)式 In2O3-SnO2 ? ?? 分子量 428.343 ? ? ? ? 熔點 287℃ 密度 1.2g/ml ? ? ? ? ? ? 純度 99.99% 支持合金靶材定制，請?zhí)峁┌胁漠a(chǎn)品的元素、比例（重量比或原子比）、規(guī)格，我們會盡快為您報價！！? 服務(wù)項目：靶材成份比例、規(guī)格、純度均可按需定制。
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? 加工流程：熔煉→提純→鍛造→機加工→檢測→包裝出庫 標簽： ? ? 北京市氮化鋁靶材 ? 北京市氮化鋁靶材廠家

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