? 硼化鈦靶材TiB2靶材磁控濺射靶材電子束鍍膜蒸發(fā)料 強(qiáng)烈建議陶瓷化合物靶材綁定背靶使用 ? ? ? ?陶瓷化合物靶材本身質(zhì)脆且導(dǎo)熱性差，連續(xù)長(zhǎng)時(shí)間濺射易發(fā)生裂靶情況，綁定背靶后，可以提高化合物靶材的導(dǎo)熱性能，提高靶材的使用壽命。
我們強(qiáng)烈建議您，選購(gòu)陶瓷化合物靶材一定要綁定銅背靶！ ? ? ? ?我公司采用高純銦作為焊料，銦焊厚度約為0.2mm，高純無(wú)氧銅作為背靶。
? ? ? ?注意：高純銦的熔點(diǎn)約為156℃，靶材工作溫度超過(guò)熔點(diǎn)會(huì)導(dǎo)致銦熔化！綁定背靶不會(huì)影響靶材的正常使用！ ? ? ? ?建議：陶瓷脆性靶材、燒結(jié)靶材，高功率下濺射易碎，建議濺射功率不超過(guò)3W/cm2 用途范圍：耐磨涂層，半導(dǎo)體薄膜，電子材料，陶瓷材料，稀土材料，合金材料 特色服務(wù)：提供定制特殊規(guī)格服務(wù)? 產(chǎn)品介紹 ? ? ? 二硼化鈦(TiB2)是硼和鈦?zhàn)罘€(wěn)定的化合物，為C32型結(jié)構(gòu)，以其價(jià)鍵形式結(jié)合，屬六方晶系的準(zhǔn)金屬化合物。
具有良好的導(dǎo)電性和金屬光澤、高硬度和脆性的特點(diǎn)。
二硼化鈦粉末是灰色或灰黑色的，熔點(diǎn)：2980℃，密度：4.52 g/cmn在空氣中*溫度可達(dá)1000℃，在HCl和HF酸中穩(wěn)定。
二硼化鈦主要用于制備復(fù)合陶瓷制品；也可用于導(dǎo)電陶瓷材料等；由于其可抗熔融金屬的腐蝕，可用于熔融金屬坩鍋和電解池電極的制造。
產(chǎn)品參數(shù) 中文名 二硼化鈦? ?化學(xué)式 TiB2 熔點(diǎn) 2980℃? ? ? ?密度 4.52 g/cm3 ? ? ?陶瓷靶材采用常壓燒結(jié),氣氛燒結(jié),熱等靜壓燒結(jié)等工藝,嚴(yán)格控制原料的純度,成分及成型坯料額設(shè)計(jì)尺寸,坯料經(jīng)過(guò)精密機(jī)械加工成靶材,可根據(jù)客戶(hù)要求定制加工特殊摻雜比例靶材。
產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)? ?靶材純度高,致密度高,成分均勻 * 產(chǎn)品規(guī)格? 圖片靶材，矩形靶材，圓柱靶材，臺(tái)階片靶材，管型靶材，根據(jù)客戶(hù)的圖紙定制 產(chǎn)品用途 磁控濺射鍍膜材料等 產(chǎn)品附件 正式報(bào)價(jià)單/購(gòu)銷(xiāo)合同/裝箱單/材質(zhì)分析檢測(cè)單 適用儀器 各類(lèi)型號(hào)磁控濺射設(shè)備 服務(wù)項(xiàng)目? 靶材成份比例、規(guī)格、純度均可按需定制。
科研單位貨到付款，*，售后無(wú)憂(yōu) 加工流程? 熔煉→提純→鍛造→機(jī)加工→檢測(cè)→包裝出庫(kù) 廠家優(yōu)勢(shì) ? ?* ? ?收貨后7日內(nèi)可協(xié)商退換貨 ? ?靶材種類(lèi)齊全 支持合金靶材定制，請(qǐng)?zhí)峁┌胁漠a(chǎn)品的元素、比例（重量比或原子比）、規(guī)格，我們會(huì)盡快為您報(bào)價(jià)??！ 本網(wǎng)站價(jià)格只做參考，期待您的垂詢(xún)！? 服務(wù)項(xiàng)目：靶材成份比例、規(guī)格、純度均可按需定制。
科研單位貨到付款，*，售后無(wú)憂(yōu)！ 產(chǎn)品附件：發(fā)貨時(shí)產(chǎn)品附帶裝箱單/質(zhì)檢單/ 適用儀器：多種型號(hào)磁控濺射、熱蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)設(shè)備? 質(zhì)量控制：嚴(yán)格控制生產(chǎn)工藝，采用輝光放電質(zhì)譜法GDMS或ICP光譜法等多種檢測(cè)手段，分析雜質(zhì)元素含量保證材料的高純度與細(xì)小晶粒度；可提供質(zhì)檢報(bào)告。
? 加工流程：熔煉→提純→鍛造→機(jī)加工→檢測(cè)→包裝出庫(kù) 物理性質(zhì) 元素周期表第Ⅱ族主族。
? 1.常規(guī)金屬靶材：鎂Mg靶材，錳Mn靶材，鐵Fe靶材，鈷Co靶材，鎳Ni靶材，銅Cu靶材，鋅Zn靶材，鉛Pd靶材，錫Sn靶材，鋁Al靶材。
2.小金屬靶材靶材：銦In靶材，鍺Ge靶材，鎵Ga靶材，銻Sb靶材，鉍Bi靶材 3.難熔金屬靶材：鈦靶材Ti，鋯靶材Zr，鉿靶材Hf，釩靶材V，鈮靶材Nb，鉭靶材Ta，鉻靶材Cr，鉬靶材Mo，鎢靶材W，錸靶材Re. 4.金屬靶材：金靶材Au，銀靶材Ag，鈀靶材Pd，鉑靶材Pt，銥靶材Ir，釕靶材Ru，銠靶材Rh，鋨靶材Os. 5.半金屬靶材：碳靶材C，硼靶材B，碲靶材Te，硒靶材Se. 6.稀土金屬靶材：釓靶材Gd、釤靶材Sm、鏑靶材Dy、鈰靶材Ce、釔靶材Y、鑭靶材La、鐿靶材Yb、鉺靶材Er、鋱靶材Tb、鈥靶材Ho、銩靶材Tm、釹靶材Nd、鐠靶材Pr、镥靶材Lu、銪靶材Eu、鈧靶材Sc及稀土摻雜靶材. 標(biāo)簽： 硼化鈦靶 TiB2 磁控濺射 電子束鍍 ? 硼化鈦靶材 TiB2靶材 磁控濺射靶材 電子束鍍膜蒸發(fā)料 ? 北京市硼化鈦靶材 ? 北京市硼化鈦靶材廠家

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