防水納米液真空鍍膜技術(shù)的特點(diǎn)，真空鍍膜技術(shù)主要有真空蒸發(fā)鍍、真空濺射鍍、真空離子鍍、真空束流沉積、化學(xué)氣相沉積等多種方法。
除化學(xué)氣相沉積法外，其他幾種方法均具有以下的共同特點(diǎn)： (1)各種鍍膜技術(shù)都需要一個(gè)特定的真空環(huán)境，制膜材料在加熱蒸發(fā)或?yàn)R射過(guò)程中所形成蒸氣分子的運(yùn)動(dòng)，不致受到大氣中大量氣體分子的碰撞、阻擋和干擾，并*大氣中雜質(zhì)的不良影響。
對(duì)于濺射類鍍膜，可以簡(jiǎn)單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來(lái)，并且終沉積在基片表面，納米鍍膜，經(jīng)歷成膜過(guò)程，終形成薄膜。
濺射鍍膜又分為很多種，總體看，鏡頭納米鍍膜，與蒸發(fā)鍍膜的不同點(diǎn)在于濺射速率將成為主要參數(shù)之一。
濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld，組分均勻性容易保持，而原子尺度的厚度均勻性相對(duì)較差(因?yàn)槭敲}沖濺射)，液態(tài)納米鍍膜，晶向(外沿)生長(zhǎng)的控制也比較一般。
以pld為例，因素主要有：靶材與基片的晶格匹配程度、鍍膜氛圍(低壓氣體氛圍)、基片溫度、激光器功率、脈沖頻率、濺射時(shí)間。
晶格有序度的均勻性： 這決定了薄膜是單晶，多晶，非晶，是真空鍍膜技術(shù)中的熱點(diǎn)問(wèn)題，具體見(jiàn)下。
主要分類有兩個(gè)大種類： 蒸發(fā)沉積鍍膜和濺射沉積鍍膜，具體則包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，溶膠凝膠法等等 一、對(duì)于蒸發(fā)鍍膜： 一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來(lái)，并且沉降在基片表面，通過(guò)成膜過(guò)程(散點(diǎn)-島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長(zhǎng))形成薄膜。
厚度均勻性主要取決于： 1、基片材料與靶材的晶格匹配程度 2、基片表面溫度 3、蒸發(fā)功率，速率 4、真空度 5、鍍膜時(shí)間，厚度大小。
組分均勻性： 蒸發(fā)鍍膜組分均勻性不是很容易保證，具體可以調(diào)控的因素同上，家具納米鍍膜，但是由于原理所限，對(duì)于非單一組分鍍膜，蒸發(fā)鍍膜的組分均勻性不好。
晶向均勻性： 1、晶格匹配度 2、基片溫度 3、蒸發(fā)速率 家具納米鍍膜-拉奇納米-納米鍍膜由東莞拉奇納米科技有限公司提供。
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