化學(xué)氣相沉積設(shè)備CVD碳包覆設(shè)備設(shè)備名稱：鴻峰牌CVD化學(xué)氣相沉積爐 設(shè)備用途： 真空CVD化學(xué)氣象沉積爐主要用于實(shí)驗(yàn)室新型炭材料和膜材料的化學(xué)沉積實(shí)驗(yàn),屬于管式高溫回轉(zhuǎn)爐。
該設(shè)備燒結(jié)溫度可達(dá)1150℃,;可配置不同的真空系統(tǒng)來達(dá)到理想的真空度;同時(shí)通 過三路高精度質(zhì)量流量計(jì)控制不同氣體體,是為石圓生長、研發(fā)的*爐,也同樣透用于要求升降溫速度 比較快的CVD實(shí)驗(yàn) 鴻峰化學(xué)氣相沉積爐的主要特點(diǎn)： 1.滑動(dòng)式爐體結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)快速升降溫 2.開啟式蓋設(shè)置,降低沉積溫度、加快沉積速度 3.日本進(jìn)口溫控儀表,64控溫程序,分段式加熱控制 4.雙極旋片真空原+分子原,實(shí)取對(duì)真空度的不同要求,極限真空可達(dá)10E-4pa 5.加熱區(qū)穩(wěn)定溫度可達(dá)1150℃ 6.工作電壓:AC220v50/60Hz;功率;4KW 7.爐體采用高純石英管,高溫下化學(xué)穩(wěn)定性強(qiáng),耐腐蝕,熱膨脹系數(shù)極小 售后與保修： 鴻峰牌CVD化學(xué)氣相沉積爐整機(jī)一年保修(相關(guān)耗材除外）；終身維護(hù)，質(zhì)保期起始日為設(shè)備到達(dá)客戶現(xiàn)場*天。
主營產(chǎn)品：實(shí)驗(yàn)室回轉(zhuǎn)爐、超容碳活化爐、石墨烯還原爐、氣氛回轉(zhuǎn)爐 以客戶需求為出發(fā)點(diǎn),研制的粉體干燥煅燒系列回轉(zhuǎn)爐、網(wǎng)帶爐、推板爐、管式爐、井式爐、梭式窯等廣泛應(yīng)用于鋰離子電池材料(*鐵鋰、錳酸鋰、鈷酸鋰、三元、石墨負(fù)極等)、稀土材料、活性炭、化工催化劑材料、磁性材料、粉末冶金材料等。
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